Intel ще инвестира 20 милиарда долара за "най-голямото" съоръжение за производство на чипове
Беше разкрито, че технологичният титан, Intel, ще похарчи 20 милиарда долара за изграждането на изцяло ново съоръжение за производство на чипове в Охайо, САЩ. Главният изпълнителен директор на Intel, Pat Gelsinger, е цитиран да нарече съоръжението „най-голямото място за производство на силиций на планетата“, когато приключи изграждането му.
По отношение на окончателните детайли на проекта, се споменава също, че съоръжението ще бъде построено върху парцел от 1000 акра в покрайнините на Кълъмбъс, Охайо, и ще включва две инсталации за производство на полупроводници. Що се отнася до кога съоръжението ще бъде пуснато в експлоатация, е отбелязано, че строителството ще започне тази година, като целта е то да бъде завършено и да заработи до 2025 г.
Ако съоръжението, което Gelsinger нарича още началото на „Силиконовата сърцевина“, стане успешен, Intel ще има опцията да разшири съоръжението, за да включва осем работещи завода за производство на полупроводници, като удвои парцела, на който се базира, като направи това е имот от 2000 акра.
Новините на GAME.bg вече пристигат по-бързо през новото ни мобилно приложение, което може да свалите от телефона си ТУК.
